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  • 商品名稱: 12英寸PECVD設備
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承擔國家“十一五”重大專項
自主研發,擁有100%知識產權
用於90-65奈米積體電路的生產
具有45-32奈米技術的延伸性
獨創的平臺架構設計,使設備產能達世界領先水準
具有高品質的SiO2、Si3N4、SiOxNy、SiC等薄膜製備工藝技術