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  • 商品名稱: 12英吋ALD設備
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ALD系列是我公司自主研發的12英吋原子層沉積ALD設備,可應用于超大規模集成電路及先進封裝(TSV)領域。目前可提供高溫、低溫Sio2,SiN,AL2O3薄膜,即將陸續拓展High K及金屬氮化物等應用。ALD技術一次沉積一層原子薄膜,能有效覆蓋及填充高深度比的孔洞。反應腔能結合在已通過生產驗證的高產能PF-300T PECVD平台上,充分實現ALD設備對產能的需求。