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沈陽拓荊科技有限公司承擔的國家科技重大專項順利通過驗收

日期:2016年8月17日 11:53

摘要:

2016年4月15日,沈陽拓荊科技有限公司承擔的十一五科技重大專項“90-65nm等離子體增強化學氣相沉積設備研發與應用”項目在沈陽順利通過驗收。該項目成功開發除了具有完全自主知識產權的適用於12英吋芯片生產線的90-65nm PECVD設備。此前該技術產品完全被美日等發達國家壟斷,設備出口嚴重受限,極大地制約了國產芯片產業發展。該 項目由沈陽拓荊科技有限公司、中科院沈陽科學儀器股份有限公司聯合承擔,聯合中國科學院微電子研究所共同圍繞 12英吋PECVD設備的架構平台設計、薄膜工藝開發、方針理論計算、設備可靠性及工藝可重複性、薄膜均勻性控制、 射頻技術等關鍵技術問題展開研究和攻關,逐步掌握了具有自主知識產權的高質量薄膜材料生產設備成套先進工藝,申請專利307項,建立技術標準10項,形成了5項新產品,其中12英吋生產性PECVD設備榮獲國家重點新產品。產品 通過了中芯國際300nm晶圓製造及蘇州晶方、華進半導體、華天科技的300nm三維封裝的生產驗證、採購認證與使用,各項指標達到國際水平, 成本為國際設備的70%.目前項目實現了7臺300nm PECVD的銷售,另有5臺設備已經交付用戶,產品及服務得到了用戶的一致認可。作為IC裝備武大核心裝備之一,改項目的完成一舉填補了國內空白,打破了國際壟斷,提升了我國集成電路產業整體競爭力。在此特別感謝科技部及02專項辦公室對拓荊公司的大力支持。拓荊公司將在十一五重大專項基礎上繼續深入開展研發,目前公司 3D NAND PECVD設備項目又一次獲批國家科技部重大專項,再次向裝備製造也得珠穆朗瑪峰發起衝鋒。 http://news.xinhuanet.com/tech/2016-04/16/c_1118642232.htm

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